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0.1nm分辨率白光干涉儀

簡要描述:SuperView W1系列0.1nm分辨率白光干涉儀,以“超精密、全適配、高效率、低運維"的核心優勢,應用覆蓋半導體、3C電子等多行業場景,數據驅動檢測,賦能精密制造升級。如需獲取產品演示視頻、行業案例手冊或免費樣品測試。

  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2025-12-08
  • 訪  問  量:59

詳細介紹

品牌中圖儀器產地國產
加工定制

在半導體、光學加工、3C電子等超精密制造領域,“測量分辨率不足導致數據失真"“微觀形貌無法精準捕捉"“環境干擾影響檢測穩定性"等痛點,直接制約產品良率與工藝升級。中圖儀器0.1nm分辨率白光干涉儀(SuperView W1系列),以0.1nm核心分辨率為突破,結合白光干涉技術與智能化功能,為B端用戶提供“高精度、全適配、高效率"的表面形貌測量解決方案。


一、解決行業四大核心測量痛點

0.1nm分辨率白光干涉儀

二、產品優勢

1.超精密數據,奠定工藝優化基石

0.1nm分辨率搭配0.1nm形貌重復性(STR)、0.005nm粗糙度RMS重復性,連續10次測量Sa=0.2nm硅晶片,數據偏差<0.001nm,符合ISO 25178、ISO 10610等300余種國內外標準。無論是納米級臺階高度、微觀幾何輪廓,還是超光滑表面粗糙度,均能精準量化,為工藝調整提供可信的量化依據,某半導體企業應用后,因測量誤差導致的返工率降低18%。

2.高速掃描,效率精度雙在線

突破“高分辨率必低速度"的行業瓶頸,W1-Ultra型號在0.1nm分辨率下,掃描速度高達8μm/s,是傳統同類設備的4倍以上;支持單/多區域一鍵測量、陣列式批量檢測,搭配編程預設流程,實現“無人值守"自動化操作。某3C電子代工廠檢測手機玻璃屏微觀形貌時,日均檢測量從200片提升至550片,檢測效率提升175%。

3.全場景適配+抗干擾,復雜環境穩輸出

單掃描模式全覆蓋超光滑到粗糙、鏡面到全透明/黑色材質,無需更換模塊或耗材;配備氣浮式隔振底座與0.1nm分辨率環境噪聲評價功能,可定量檢測外界干擾并有效隔離,即便在車間振動環境中,仍能保持數據穩定。某光學加工企業反饋,設備在車間常態環境下運行,測量數據波動<0.002nm,滿足元件生產要求。

4.智能化操作+安全防護,降低運維成本

集成式操縱桿可控制所有位置軸、速度及光源亮度,新手培訓1天即可獨立操作;雙重鏡頭防撞保護(軟件ZSTOP+彈簧回縮結構)+光源無人值守自動熄燈設計,設備年損耗率降至2%以下,光源使用壽命延長3年,維護成本較傳統設備降低60%。

0.1nm分辨率白光干涉儀

三、行業應用

1.半導體制造及封裝:精準測量硅晶片研磨減薄后的表面粗糙度、光刻槽道微觀輪廓,助力頭部企業工藝良率提升8%,檢測數據通過國際標準認證,可直接對接供應鏈質檢要求。

2.3C電子:適配玻璃屏粗糙度、金屬殼模具瑕疵、油墨屏高度差測量,0.1nm分辨率可捕捉微米級劃痕與凹陷,批量檢測無需重復調試,滿足規模化生產質檢需求。

3.光學加工:量化光學元件表面粗糙度、納米臺階高度,數據精高,幫助企業突破光學產品技術瓶頸,成功打入海外市場。

4.汽車零部件與MEMS器件:檢測精密齒輪磨損情況、MEMS器件孔隙間隙,在復雜車間環境中保持數據穩定,某車企借此將零部件質檢合格率提升12%。


四、定制化服務

可根據行業需求定制測量模板、分析參數,提供免費樣品測試與行業專屬解決方案設計。

0.1nm分辨率白光干涉儀

SuperView W1系列0.1nm分辨率白光干涉儀,以“超精密、全適配、高效率、低運維"的核心優勢,應用覆蓋半導體、3C電子等多行業場景,數據驅動檢測,賦能精密制造升級。如需獲取產品演示視頻、行業案例手冊或免費樣品測試。

注:產品參數與配置以實際交付為準,中圖儀器保留根據技術升級調整相關內容的權利,恕不另行通知。

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